dc.description.abstract | Formål: Oppgavens formål er å undersøke risikofaktorer for postoperativ infeksjon etter uretrorenoskopisk litotripsi (URL). Studien belyser forekomst av infeksiøse komplikasjoner og undersøker hvilke mikrobiologiske agens som er aktuelle ved infeksjon samt deres resistensmønster.
Metode: Studien er en retrospektiv kohortstudie av 324 prosedyrer av URL ved UNN Tromsø fra 01.08.17 til 01.08.19. Det ble gjort logistisk regresjon med postoperativ infeksjon som avhengig variabel for å estimere odds ratio (OR) for aktuelle variabler. Alder, komorbiditet, kjønn, BMI, diabetes, operasjonstid og preoperativ UVI-status ble brukt som avhengige variabler. Postoperativ infeksjon ble definert som pasienter med diagnosekode for urinveisinfeksjon eller sepsis ved utreise. Sepsiskodene ble verifisert med SOFA-score. Informasjon om mikrobiologiske dyrkningssvar ble innhentet fra journal.
Resultater: 33 pasienter fikk påvist postoperativ infeksjon, som gir en infeksjonsrate på 10,2%. Dette fordelte seg som 6,5% urinveisinfeksjoner og 3,7% pasienter med urosepsis, der 2,8% hadde sepsis etter SOFA-kriteriene. Risikofaktorer for postoperativ infeksjon var kvinner med OR 3.77 (95% CI, 1,64-8,64), og diabetikere med OR 2,86 (95% CI, 1,10-7,41).
E. coli og Enterococcus faecalis var vanligste agens ved preoperativ urindyrkning. Disse dominerte også i dyrkningssvar fra postoperative urin- og blodkulturer. 52,9% av bakteriene påvist ved postoperative infeksjonene var resistente mot trimetoprim og 41,2% var resistente mot gentamicin, som begge er aktuelle antibiotika ved profylakse og behandling.
Konklusjon: Kvinner og pasienter med diabetes har økt risiko for å utvikle infeksjon etter URL. Videre ses det at 10,2 % av pasientene som gjennomgår URL utvikler infeksjon postoperativt, og dette er høyere enn øvrig litteratur. De vanligste mikrobiologiske agens var mikrober som ofte assosieres med infeksjon i urinveier. Det ble funnet høy forekomst av resistens mot vanlige urinveisantibiotika som gentamicin og trimetoprim. | en_US |